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真空電源
  • 通過可變波形提高精確度,為雙陰極系統設計的雙極性脈沖電源。
  • 激發能確保鍍膜質量優異的高密度等離子體,高功率脈沖磁控管濺射(HIPIMS)電源可助您獲得出色的鍍膜結果。
  • 每種磁控濺鍍工藝都能得到偏壓電源支持:TruPlasma Bias 3000 / 4000 偏壓電源系列是用途廣泛、先進的直流偏壓電源。無論對于在材料預處理、干刻和偏壓膜層的沉積等應用,還是對于PVD技術中使用的各種靶材,TruPlasma Bias 3000/4000偏壓電源系列是您的最佳選擇。
  • 利用真空電弧離子鍍獲得性能優異的硬質鍍膜,利用真空電弧離子鍍獲得性能優異的硬質鍍膜!
  • 用于微觀工藝的宏觀產品,射頻電源系列可以使加工工藝具有極高的穩定性,因此常常被應用在微型元件的生產中。在其他電源方案無法有效實施的時候,該系列電源將助您成功。
  • 確保大面積和高濺鍍率的專業產品,中頻電源系列眾多優點集于一身:相對于直流電源系列,具有更高的穩定性;相對于高頻電源系列,解決方案更為經濟。對于高沉積率的大面積磁控濺鍍工藝是理想的電源。在雙磁控管的應用領域,中頻電源是建筑玻璃設備和金屬鍍膜設備中的核心組件。
  • 等離子體激發領域的杰作,等離子激發技術是最經濟的入門級技術。等離子體激發直流電源系列可以用于磁控濺鍍的單陰極系統、雙陰極系統,以及基材的磁化處理。
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